エピタキシャル遷移金属膜における表面ひずみの操作は、電気触媒活性を向上させることができますが、不可逆的なひずみ緩和により長期的な性能の維持は困難です。ここでは、著者らはエピタキシャルPt/Ir膜における厚さに依存する臨界ひずみを特定し、酸素還元反応における安定性と活性を最適化します。