高度なエピタキシーとレイヤーリフトオフ技術からなるフレームワークは、単結晶ナノメンブレンの異種光集積を利用して、シリコンおよびシリコンナイトライドフォトニクスに望ましい機能性を注入し、超効率的な電気光学および磁気光学変調を実証します。