従来の銅配線の電気抵抗率は、その寸法が小さくなるにつれて増加します。対照的に、CoSiナノフレークの抵抗率は、厚さが1μmから約20nmに減少するにつれて減少します。これらのナノフレークは高い信頼性を示し、ナノスケールでの有望な配線として機能します。