高度なバックエンド・オブ・ラインおよびウェーハ裏面技術のため... ノート

高度なバックエンド・オブ・ラインおよびウェーハ裏面技術のための二次元材料

二次元材料は、低抵抗率、強力な熱管理、およびバックエンド・オブ・ライン(BEOL)との互換性を提供し、次世代半導体チップにおける先進的なインターコネクト、バックサイド電源供給、および効率向上に有望です。