表面への分子吸着のシミュレーションは、計算方法が精度不足または計算コストが高すぎるという問題に悩まされることが多く、かなりの課題となっています。現在、オープンソースの多段階埋め込みアプローチにより、イオン性材料の表面への吸着プロセスを、実験と同等の精度で日常的にモデル化できるようになりました。