Micron Technologyは、AIプロセッサに不可欠な先進メモリチップを製造するため、日本の広島にある工場で1兆5000億円規模の拡張を開始しました。この大規模な投資は、高帯域幅メモリの生産能力増強を目的としており、出荷は2028年夏頃に開始される見込みです。日本政府はこの取り組みを大幅な資金で支援しており、費用の一部を賄うために最大5000億円を割り当てています。この動きは、人工知能技術への需要の高まりに対応するため、メモリメーカーが生産能力を増強している世界的な傾向と一致しています。Micronはまた、ボイシとシラキュースに新しいファブを建設し、米国での事業も拡大しています。SK HynixやSamsung Electronicsといった他の主要なメモリメーカーも同様に製造能力を増強しています。広島の工場は、Micronが最初の大帯域幅メモリウェハーを製造した場所であるため、特に重要です。国内唯一のDRAMメーカーであるMicronに対する日本の積極的な支援は、半導体分野でのリーダーシップ奪還に向けた戦略的な焦点を浮き彫りにしています。日本政府は、国家安全保障にとって極めて重要であると見なしている半導体およびAI開発を支援するために、多額の資金を拠出しています。日本はチップ材料において強力な能力を持っていますが、完成品の半導体製造における存在感は限られており、広島工場では材料の約80％を国内で調達しています。