Фреймворк, состоящий из передовых методов эпитаксии и отслаивания слоев, использует гетерогенную фотонную интеграцию монокристаллических наномембран для придания желаемых функциональных возможностей фотонике на основе кремния и нитрида кремния, демонстрируя сверхэффективную электрооптическую и магнитооптическую модуляцию.