メタフォトニクスにおけるチェルン数保護されたフラットバンド端状態

著者: チェン・ジェンフォン、ジェン・イードン、ヤン・シュイフア、アンドレア・アルー、リー・ジーユアン、そして チウ・チェンウェイ 2次元フォトニックメタマテリアルは、2つの量子材料の有用な特徴を組み合わせたものです。[Phys. Rev. Lett. 134, 223806] 2025年6月5日木曜日に発行