日本の名古屋大学の研究グループは、従来の2つの部品からなる構造の代わりに、単結晶圧電薄膜のニオブ酸リチウム(LN)ウェーハを使用することで、X線ビームサイズを3,400倍以上も変化させる変形ミラーを開発しました。この改良された調整範囲は、特に産業界で使用されるX線において、イメージングと分析の両方を向上させます。
phys.org
Wafer lens changes X-ray beam size by more than 3,400 times
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