ゴッテスマン・キタエフ・プレスキル量子ビットの集積化フォトニック光源

カスタマイズされた多層シリコン窒化膜300mmウェハプラットフォーム上に作製された超低損失集積フォトニックチップが、高効率な光子数分解検出器と光ファイバーで結合され、ゴットスマン・キタエフ・プレスキル（Gottesman–Kitaev–Preskill: GKP）量子ビット状態を生成するために使用される。