Wendelstein 7-Xにおける乱流低減高密度勾配プラ... ノート

Wendelstein 7-Xにおける乱流低減高密度勾配プラズマにおけるマイクロティアリング乱流の重要性

著者: H. Cu-Castillo, A. Bañón Navarro, G. Merlo, F. Reimold, T. Romba, O. Ford, S. Bannmann, L. Vanó, M. Wappl, J. Geiger, A. Goodman, A. Zocco, F. Jenko, and W7-X Team 急峻な密度勾配、中程度の温度勾配、および低いプラズマベータを特徴とする、乱流が低減されたWendelstein 7-X放電のジャイロ運動論的シミュレーションは、マイクロティアリングモード(MTM)乱流が輸送を支配することを示している。シミュレーションされた熱および粒子フラックスは、実験的な測定値と一致する… [Phys. Rev. Lett. 137, 035102] 2026年7月14日火曜日公開