稳定且活性的外延铂氧还原电催化剂的临界表面应变区域 笔记

稳定且活性的外延铂氧还原电催化剂的临界表面应变区域

在外延过渡金属薄膜中调控表面应变可增强电催化活性,但由于不可逆的应变弛豫,维持长期性能具有挑战性。本文作者确定了外延 Pt/Ir 薄膜中依赖于厚度的临界应变,该应变可优化氧还原反应的稳定性与活性。